權(quán)利要求書的撰寫要求有哪些?
根據(jù)《專利法》的規(guī)定,發(fā)明和實(shí)用新型專利申請(qǐng)需要提交專利請(qǐng)求書、權(quán)利要求書、說(shuō)明書(附圖)、摘要(附圖)等文件。
權(quán)利要求書作為法律文件之一起著至關(guān)重要的作用。
它不僅可以確定專利權(quán)的保護(hù)范圍,而且是判斷他人是否侵權(quán)的重要依據(jù)。
專利審查和各種侵權(quán)訴訟程序都是基于權(quán)利要求書提交的技術(shù)計(jì)劃。
由此可見(jiàn),申請(qǐng)人在撰寫權(quán)利要求書時(shí),必須掌握以下寫作技巧,以提高權(quán)利要求書的質(zhì)量。
撰寫權(quán)利要求書的方式有很多,應(yīng)與技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)。
1、排除無(wú)法保護(hù)的主題在撰寫,首先要排除不符合《專利法》第二條發(fā)明或者實(shí)用新型定義的主題,排除明顯屬于《專利法》第五條或者第二十五條不能授予專利權(quán)的對(duì)象,排除明顯不符合《專利法》第二十二條第四款有關(guān)實(shí)用性規(guī)定的主題。
2、寫作要求1)權(quán)利要求書應(yīng)包括獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。
2)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)滿足以下要求:①在合理的前提下具有廣泛的保護(hù)范圍,最大限度地反映申請(qǐng)人的利益;②明確、簡(jiǎn)明地限制其保護(hù)范圍;③記錄解決技術(shù)問(wèn)題的所有必要技術(shù)特點(diǎn);④現(xiàn)有技術(shù)新穎、創(chuàng)造性;⑤符合《專利法》和《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的其他規(guī)定。
3)從屬權(quán)利要求應(yīng)滿足以下要求:①?gòu)膶贆?quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)合理;②與被引用的權(quán)利要求有明確的邏輯關(guān)系;③當(dāng)授權(quán)后不得不縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍時(shí),可以提供足夠的修改空間;④符合《專利法》和《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。
4)撰寫多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求的,多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)具有單一性。
以上是權(quán)利要求書的撰寫要求,希望對(duì)您有幫助。
本文內(nèi)容根據(jù)網(wǎng)絡(luò)資料整理,出于傳遞更多信息之目的,不代表金鑰匙跨境贊同其觀點(diǎn)和立場(chǎng)。
轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明,如有侵權(quán),聯(lián)系刪除。